真空蒸镀技术PPT

真空蒸镀技术是一种在真空环境下，通过加热蒸发镀膜材料并使之气化，然后粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。这是一种较早且广泛使用的气相沉积技术，具有成膜方法...

真空蒸镀技术是一种在真空环境下，通过加热蒸发镀膜材料并使之气化，然后粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。这是一种较早且广泛使用的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。真空蒸镀技术简介真空蒸镀的物理过程主要包括以下步骤：沉积材料蒸发或升华为气态粒子气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜薄膜原子重构或产生化学键合在进行蒸镀前，基片表面必须清洁，以确保膜层的纯度和结合力。镀前准备还包括将镀膜室抽真空到合适的真空度，并对基片和镀膜材料进行预处理。然后，在一定真空度下，对蒸发源通以电，将镀膜材料加热到蒸发温度，开始蒸镀。真空蒸馏工艺的相关参数真空蒸馏工艺的相关参数主要包括：压力这是影响蒸镀过程的重要因素。根据操作压力的不同，真空蒸馏可分为减压蒸馏、粗真空蒸馏、低真空蒸馏、准分子蒸馏和分子蒸馏温度包括基片温度和镀料蒸发温度，这两个参数的选择对蒸镀过程有重要影响沉积气压即镀膜室的真空度高低，决定了蒸镀空间气体分子运动的平均自由程和一定蒸发距离下的蒸气与残余气体原子及蒸气原子之间的碰撞次数真空蒸镀源蒸镀源是真空蒸镀设备中的重要组成部分，它主要负责提供镀膜材料蒸发的能量。常见的蒸镀源有电阻加热蒸镀源、电子束加热蒸镀源、激光加热蒸镀源等。真空蒸镀设备真空蒸镀设备主要由真空抽气系统和蒸发室组成。真空抽气系统包括（超）高真空泵、低真空泵、排气管道和阀门等，用于将镀膜室抽真空到合适的真空度。蒸发室大多用不锈钢制成，内部配有蒸发源、基片和蒸发空间。此外，还有控制蒸发原子流的挡板，以及测量真空度的真空测量计等。在真空蒸镀设备的选择上，还需要考虑设备的稳定性、可靠性、操作简便性等因素。例如，科研微型高真空电阻式热蒸发镀膜机和实验室真空蒸镀机就是两种常见的真空蒸镀设备。这些设备可广泛应用于科研、教学、工业生产等领域。总的来说，真空蒸镀技术是一种重要的薄膜制备技术，它在电子、光学、材料科学等领域有着广泛的应用。随着科学技术的进步，真空蒸镀技术也在不断发展和完善，为薄膜科学和技术的发展提供了强大的支持。以上是对真空蒸镀技术的简要介绍，包括其基本原理、工艺流程、相关参数、蒸镀源以及蒸镀设备等方面。希望这些信息对你有所帮助。如有需要，建议进一步查阅相关文献资料或咨询专业人士。